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锆铪产品

在现代材料科学与工业应用的前沿领域，锆铪产品系列正发挥着举足轻重的作用。这些产品以其卓越的属性、广泛的应用领域以及先进的技术，成为推动众多行业进步的关键力量。

电子级四氯化铪（HfCl₄）

应用：主要应用于半导体制造工艺中的原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）过程。

化学式：HfCl₄
纯度：99.95%
形状：颗粒、粉末
外观：白色
熔点：319℃
理论密度：3.46g/cm³

高纯铪（Hf）

应用：在航空航天领域，高纯铪被广泛用于制造航空发动机的高温部件，如燃烧室、涡轮叶片等。此外，在电子器件领域，高纯铪还可用于制造高性能的电子元器件，如高可靠性的电阻器、电容器等，为电子设备的小型化、高性能化提供支持。

化学式：Hf
纯度：核级99.5%和电子级99.95%
形状：金属晶体
外观：银灰色
熔点：约2227℃
理论密度：13.31g/cm³

高纯氧氯化锆（ZrOCl₂·8H₂O）

应用：高纯氧氯化锆是制备高性能陶瓷材料的重要原料，广泛应用于电子陶瓷、结构陶瓷、生物陶瓷等领域。此外，在催化剂领域，高纯氧氯化锆也可作为催化剂载体或活性组分，用于石油化工、有机合成等化学反应中，提高反应的选择性和催化效率。

化学式：ZrOCl₂·8H₂O
纯度：ZrO₂≥35%
形状：针状晶体
外观：白色
熔点：400℃
理论密度：1.91g/cm³

核级氢氧化锆（Zr(OH)₄）

应用：主要应用于核反应堆的堆芯结构材料、核燃料包壳材料和核废料处理领域。

化学式：Zr(OH)₄
纯度：ZrO₂≥76.5%，含水量≤5%
形状：无毒、无味固体粉末
外观：白色
熔点：550℃开始分解
理论密度：3.25g/cm³

核级氢氧化铪（Hf(OH)₄）

应用：在核工业中，核级氢氧化铪主要用于制造核反应堆的控制棒驱动机构等关键部件。

化学式：Hf(OH)₄
纯度：Hf≥71%，含水量≤5%
形状：无毒、无味固体粉末
外观：白色
熔点：未知
理论密度：未知

核级氧化锆（ZrO₂）

应用：在核反应堆中，核级氧化锆是制造堆芯结构部件和燃料包壳的理想材料。此外，在核废料处理领域，核级氧化锆也可用于制备固化核废料的陶瓷材料。

化学式：ZrO₂
纯度：≥99%
形状：无臭无味晶体
外观：白色
熔点：2700℃
理论密度：5.85g/cm³

精四氯化锆（ZrCl₄）

应用：在锆化合物的生产中，精四氯化锆通过进一步的化学反应可以制备出多种锆产品，如氧化锆、氢氧化锆、碳酸锆等。在陶瓷行业，它可用于制备陶瓷色料和釉料。此外，在金属表面处理领域，精四氯化锆可用于制备金属锆涂层，提高金属材料的耐腐蚀性和耐磨性。

化学式：ZrCl₄
纯度：Zr≥37.5%
形状：结晶或粉末
外观：白色有光泽
熔点：约437℃
理论密度：2.8g/cm³

氧化铪（HfO₂）

应用：在光学领域，氧化铪可用于制造各种光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件。在电子领域，氧化铪可用于制造新型的场效应晶体管（FET）和动态随机存取存储器（DRAM）等电子器件。

化学式：HfO₂
纯度：核级98%和电子级99.95%
形状：无臭无味晶体
外观：白色
熔点：约2850℃
理论密度：9.68g/cm³

氧氯化铪（HfOCl₂·8H₂O）

应用：在铪化合物的制备过程中，氧氯化铪可通过进一步的化学反应制备出高纯铪、氧化铪等多种铪产品。在表面处理领域，氧氯化铪可用于金属表面的处理工艺，广泛应用于航空航天、汽车制造等行业。

化学式：HfOCl₂·8H₂O
纯度：≥98.5%
形状：针状晶体
外观：白色
熔点：未知
理论密度：2.2g/cm³