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锆铪产品

在现代材料科学与工业应用的前沿领域,锆铪产品系列正发挥着举足轻重的作用。这些产品以其卓越的属性、广泛的应用领域以及先进的技术,成为推动众多行业进步的关键力量。

电子级四氯化铪(HfCl₄)

电子级四氯化铪(HfCl₄)

应用:主要应用于半导体制造工艺中的原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)过程。

化学式:HfCl₄
纯度:99.95%
形状:颗粒、粉末
外观:白色
熔点:319℃
理论密度:3.46g/cm³
高纯铪(Hf)

高纯铪(Hf)

应用:在航空航天领域,高纯铪被广泛用于制造航空发动机的高温部件,如燃烧室、涡轮叶片等。此外,在电子器件领域,高纯铪还可用于制造高性能的电子元器件,如高可靠性的电阻器、电容器等,为电子设备的小型化、高性能化提供支持。

化学式:Hf
纯度:核级99.5%和电子级99.95%
形状:金属晶体
外观:银灰色
熔点:约2227℃
理论密度:13.31g/cm³
高纯氧氯化锆(ZrOCl₂·8H₂O)

高纯氧氯化锆(ZrOCl₂·8H₂O)

应用:高纯氧氯化锆是制备高性能陶瓷材料的重要原料,广泛应用于电子陶瓷、结构陶瓷、生物陶瓷等领域。此外,在催化剂领域,高纯氧氯化锆也可作为催化剂载体或活性组分,用于石油化工、有机合成等化学反应中,提高反应的选择性和催化效率。

化学式:ZrOCl₂·8H₂O
纯度:ZrO₂≥35%
形状:针状晶体
外观:白色
熔点:400℃
理论密度:1.91g/cm³
核级氢氧化锆(Zr(OH)₄)

核级氢氧化锆(Zr(OH)₄)

应用:主要应用于核反应堆的堆芯结构材料、核燃料包壳材料和核废料处理领域。

化学式:Zr(OH)₄
纯度:ZrO₂≥76.5%,含水量≤5%
形状:无毒、无味固体粉末
外观:白色
熔点:550℃开始分解
理论密度:3.25g/cm³
核级氢氧化铪(Hf(OH)₄)

核级氢氧化铪(Hf(OH)₄)

应用:在核工业中,核级氢氧化铪主要用于制造核反应堆的控制棒驱动机构等关键部件。

化学式:Hf(OH)₄
纯度:Hf≥71%,含水量≤5%
形状:无毒、无味固体粉末
外观:白色
熔点:未知
理论密度:未知
核级氧化锆(ZrO₂)

核级氧化锆(ZrO₂)

应用:在核反应堆中,核级氧化锆是制造堆芯结构部件和燃料包壳的理想材料。此外,在核废料处理领域,核级氧化锆也可用于制备固化核废料的陶瓷材料。

化学式:ZrO₂
纯度:≥99%
形状:无臭无味晶体
外观:白色
熔点:2700℃
理论密度:5.85g/cm³
精四氯化锆(ZrCl₄)

精四氯化锆(ZrCl₄)

应用:在锆化合物的生产中,精四氯化锆通过进一步的化学反应可以制备出多种锆产品,如氧化锆、氢氧化锆、碳酸锆等。在陶瓷行业,它可用于制备陶瓷色料和釉料。此外,在金属表面处理领域,精四氯化锆可用于制备金属锆涂层,提高金属材料的耐腐蚀性和耐磨性。

化学式:ZrCl₄
纯度:Zr≥37.5%
形状:结晶或粉末
外观:白色有光泽
熔点:约437℃
理论密度:2.8g/cm³
氧化铪(HfO₂)

氧化铪(HfO₂)

应用:在光学领域,氧化铪可用于制造各种光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件。在电子领域,氧化铪可用于制造新型的场效应晶体管(FET)和动态随机存取存储器(DRAM)等电子器件。

化学式:HfO₂
纯度:核级98%和电子级99.95%
形状:无臭无味晶体
外观:白色
熔点:约2850℃
理论密度:9.68g/cm³
氧氯化铪(HfOCl₂·8H₂O)

氧氯化铪(HfOCl₂·8H₂O)

应用:在铪化合物的制备过程中,氧氯化铪可通过进一步的化学反应制备出高纯铪、氧化铪等多种铪产品。在表面处理领域,氧氯化铪可用于金属表面的处理工艺,广泛应用于航空航天、汽车制造等行业。

化学式:HfOCl₂·8H₂O
纯度:≥98.5%
形状:针状晶体
外观:白色
熔点:未知
理论密度:2.2g/cm³

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